据麦姆斯咨询报道，为MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合及光刻设备的供应商EV集团（以下简称EVG）于近日宣布，在晶圆级光学元件（WLO）领域与工业高科技粘合剂制造商DELO展开合作。两家公司均在光学传感器制造领域闻名遐迩，两者的合作将共同致力于利用EVG透镜注塑成型和纳米压印光刻（以下简称NIL）设备以及DELO先进的粘合剂和抗蚀材料，实现工业、汽车和消费电子等领域的生物识别、人脸识别等新型光学器件及应用。
EVG的NILPhotonics技术中心位于其总部——奥地利St. Florian，DELO总部位于德国Windach，两家公司共同开展的合作将有助于改善并加快材料的开发周期。
EVG的NILPhotonics技术中心将为NIL供应链中的客户和合作伙伴提供开放式创新孵化器，以合作的方式来缩短创新器件及应用的开发周期和上市时间。其基础设施包含最先进的洁净室和设备，以支持如步进式重复曝光、透镜成型和SmartNIL技术等NIL制造的关键步骤，以及晶圆键合和相关测量步骤。这为晶圆级光学元件的开发、原型设计和制造获取最新的技术和材料提供了一种独特的方式。 11月12日至15日在德国慕尼黑举行的SEMICON Europa展会上，两家公司高管讨论了最新的联合开发项目。 供应链协作，共同推动晶圆级光学元件的应用 先进的粘合剂和抗蚀剂在下一代光学传感器的大规模晶圆级制造中发挥着关键作用。
先进光学材料的开发需要进行大量的化学、机械和光学特性的表征，以及可大规模制造（以下简称HVM）的事实证明。如果想要使用已验证的HVM工艺，以最小的形状因子达到最佳的晶圆级光学元件性能，那么自动成型和脱膜工艺所需的材料专业知识以及在NIL图形压印和抗蚀工艺的卓越兼容性尤其重要。 为高质量产品提供高可靠性和具有制造可行性的晶圆级光学元件，需保证工艺开发和改进满足要求，那么供应商与工艺设备制造商之间的密切合作显得尤为重要。EVG与DELO的联合发力将支持两家公司改进其工艺和产品，同时还加强了各自的专业技术，以满足当前和未来的市场需求。该合作伙伴关系还将提供成熟的材料和工艺专业技术，以加快新产品设计和原型设计，同时还为双方客户的发展规划保驾护航。 “NIL Photonics技术中心以独特的方式解决了行业对新方法的需求，实现产品的快速开发上市，并保证高度机密性，”EVG企业技术开发和知识产权总监Markus Wimplinger说道。
“通过与DELO等供应链关键企业建立合作，我们作为工艺和设备专家密切合作的核心，能够更高效地帮助新生产线开发和确认关键制造步骤。” “EVG和DELO分别在晶圆级光学元件和NIL设备、光学材料市场中享有盛誉，在将这些技术和工艺应用于大规模生产方面的可靠性已有数据证明，”DELO总经理Robert Saller表示。“合作中，我们将提供自己独特的技术，将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中，使EVG成为我们最新产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用专家和优质合作伙伴的身份为客户服务。” 晶圆级光学元件的应用与解决方案 EVG的晶圆级光学元件制造解决方案为移动消费电子产品提供了众多新颖的光学传感器件。关键案例包括3D传感、飞行时间（ToF）、结构光、生物识别、人脸识别、虹膜扫描、光学指纹、光谱传感、环境传感和红外成像。其它应用还包括汽车照明、发光地毯、抬头显示、车内传感和激光雷达，以及用于内窥镜相机、眼科应用和外科机器人的医学成像。EVG的晶圆级光学元件解决方案由公司的NIL Photonics技术中心支持。 DELO的创新型多功能材料应用于全球各地的智能手机。该公司的高科技粘合剂以功能性和可靠性著称。根据客户额外的特殊需求，在需要对微型元件进行键合的短周期工业环境中，这些聚合物材料是理想选择。此外，DELO的紫外LED固化设备和分配阀可提供卓越的可靠性。
